İSGÇevre

Ticari Öneme Sahip Aril Sülfonatların Foto-Fenton Prosesi İle Arıtılabilirliğinin Cevap Yüzey Yöntemi İle Optimizasyonu

Zeynep Kartal, Gülcan Başar, Gökçe Türeli, Tuğba Ölmez-Hancı, İdil Arslan-Alaton
İstanbul Teknik Üniversitesi, İnşaat Mühendisliği Fakültesi, Çevre Mühendisliği Bölümü, 34469 Maslak, İstanbul.
 
Öz Bu çalışmada tekstil ve kimya endüstrilerinde sıklıkla kullanılan ve yarattığı çevresel kirlilik yükü açısından önem taşıyan aril sülfonatların H-Asit, K-Asit ve Parabazın foto-Fenton ileri oksidasyon prosesi ile arıtılabilirliğinin Cevap Yüzey Yöntemi (CYY) ile optimizasyonu incelenmiştir. Foto-Fenton ile arıtılabilirlik çalışmalarında farklı giriş konsantrasyonları, reaksiyon süreleri, Fe2+ ve H2O2 konsantrasyonu gibi bağımsız değişkenlerin ana madde, KOİ ve TOK giderimleri üzerine etkisi araştırılmıştır. Bu bağlamda CYY ile her aril sülfonat için oluşturulan modelin anlamlılığı sorgulanmıştır. Tüm aril sülfonatlarda modelin anlamlı olduğu sonucuna varılmış, yüksek giriş KOİ ve Fe2+ konsantrasyonlarında sistemin arıtım veriminin şğü gözlenmiştir.
Anahtar Kelimeler aril sülfonatlar; cevap yüzey yöntemi; Foto-Fenton prosesi; H-asit; K-asit; modelleme; optimizasyon; parabaz


Kaynak: İTÜ XII. Endüstriyel Kirlenme Kontrolü  Sempozyumu, Bildiriler Kitabı
Yayımlanma Tarihi: 16-18 Haziran 2010